کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1531504 | 1512015 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of amorphous silicon nanocones by bias-enhanced microwave plasma CVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We present a simple growth of highly aligned silicon nanocones by using bias-enhanced microwave plasma CVD of gas mixture of hydrogen and methane. SiO2 and nickel films were used as a silicon precursor and a seeding material for patterning cone structure, respectively. SEM studies showed that the nanocones have nanometer-size tips and sub micrometer-size bases. TEM analysis revealed that the nanocones have amorphous structure with nickel on the tips. The model for formation of silicon nanostructures will also be suggested.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 137, Issues 1–3, 25 February 2007, Pages 205–209
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 137, Issues 1–3, 25 February 2007, Pages 205–209
نویسندگان
Sutichai Chaisitsak,