کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1539725 | 996643 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Millimeter-scale self-collimation in planar photonic crystals fabricated by CMOS technology
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We report self-collimating demonstration in planar photonic crystals (PhCs) fabricated in silicon-on-insulator (SOI) wafers using 0.18 μm silicon complementary metal oxide semiconductor (CMOS) techniques. This process is original in the context of self-collimating PhC. Emphasis was on demonstrating self-collimation effect through the use of standard CMOS equipment and process development of an optical test chip using a high-volume manufacturing facility. The PhC were designed on 230 nm-top-Si layer using a square lattice of air-holes with 270 nm in diameter. The lattice constant of the PhC was 380 nm. The 1 mm self-collimation was observed at the wavelengths of 1620 nm.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optics Communications - Volume 283, Issue 4, 15 February 2010, Pages 604-607
Journal: Optics Communications - Volume 283, Issue 4, 15 February 2010, Pages 604-607
نویسندگان
Zhifeng Yang, Aimin Wu, Na Fang, Xulin Lin, Xunya Jiang, Shichang Zou, Xi Wang,