کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1561626 | 1513944 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The effect of deposition velocity and cluster size on thin film growth by Cu cluster deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مکانیک محاسباتی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We study the deposition of Cu clusters on a Si surface with molecular dynamics. ⺠We integrate EAM, SW and LJ potentials to describe the interaction. ⺠Within a window, the degree of epitaxy increases with the deposition velocity. ⺠We identify the relation between degree of epitaxy and cluster size.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Computational Materials Science - Volume 65, December 2012, Pages 230-234
Journal: Computational Materials Science - Volume 65, December 2012, Pages 230-234
نویسندگان
Hengfeng Gong, Wei Lu, Lumin Wang, Gongping Li, Shixun Zhang,