کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1631051 | 1006616 | 2015 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Capacitance–Voltage Characteristics of Selectively Doped CIAGS/Si Junctions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فلزات و آلیاژها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The capacitance-voltage measurements of Al and Ga doped CIAGS/ Si junctions grown by thermal evaporation were studied. The increase of built-in potential of junction with increase of Al and Ga concentration is observed. The free carrier concentration was found to decrease with increase in Al and Ga compositions. The transition of these films is found to be due to interface states.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Today: Proceedings - Volume 2, Issue 10, Part B, 2015, Pages 5196-5200
Journal: Materials Today: Proceedings - Volume 2, Issue 10, Part B, 2015, Pages 5196-5200