| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن | 
|---|---|---|---|---|
| 1646489 | 1517300 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان | 
عنوان انگلیسی مقاله ISI
												Characterization of β-Ga2O3 epitaxial films grown on MgO (111) substrates by metal-organic chemical vapor deposition
												
											دانلود مقاله + سفارش ترجمه
													دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
																																												موضوعات مرتبط
												
													مهندسی و علوم پایه
													مهندسی مواد
													فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
												
											پیش نمایش صفحه اول مقاله
												
												چکیده انگلیسی
												⺠β-Ga2O3 crystal epitaxial films have been prepared on MgO (111) substrates by MOCVD. ⺠The epitaxial relationship is β-Ga2O3 (2¯01) â MgO(111) with β-Ga2O3 [010] â MgO ã110ã. ⺠Six-fold domain structure exists inside the film. ⺠The average transmittance of the films in the visible wavelength range exceeded 91%.
											ناشر
												Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Letters - Volume 87, 15 November 2012, Pages 109-112
											Journal: Materials Letters - Volume 87, 15 November 2012, Pages 109-112
نویسندگان
												Wei Mi, Jin Ma, Caina Luan, Yu Lv, Hongdi Xiao, Zhao Li,