کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1658164 | 1517660 | 2013 | 10 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructure characterization and deposition mechanism studies of ZrO2 thin films deposited by LI-MOCVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Microstructures and texture evolution in ZrO2 thin films deposited by MOCVD ⺠The deposition mechanisms of ZrO2 film deposited by MOCVD ⺠The growth of tetragonal ZrO2 without doping for microelectronic applications
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 218, 15 March 2013, Pages 7-16
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 218, 15 March 2013, Pages 7-16
نویسندگان
Zhe Chen, Nathalie Prud'homme, Bin Wang, Patrick Ribot, Vincent Ji,