کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1658250 1517665 2012 10 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Arc deposition of Ti-Si-C-N thin films from binary and ternary cathodes - Comparing sources of C
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Arc deposition of Ti-Si-C-N thin films from binary and ternary cathodes - Comparing sources of C
چکیده انگلیسی
► Arc deposition of Ti-Si-C-N from binary and ternary cathodes is compared. ► Carbon supplied either as gaseous CH4 or alloyed in cathode yields similar films. ► Cubic-phase films of high hardness formed for as much as 11 at.% Si and 20 at.% C. ► Structure and properties systematically studied with respect to Si and C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 213, December 2012, Pages 145-154
نویسندگان
, , , , , , , , ,