کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1660862 | 1008413 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The effects of vacuum annealing on the structure of VO2 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Noncrystalline VOx thin films were deposited onto p-doped Si (100) substrates at 400 °C using magnetron sputtering. By vacuum annealing, we obtained polycrystalline VO2 thin films with two different structures under a variety of annealing conditions. With the annealing temperature increasing and the annealing time developing, structures of the films underwent the following transformation: amorphous structure→metastable VO2 (B)→VO2 (B) + VO2 (M). Vacuum annealing is useful of acquiring VO2 thin films with high surface quality, but too high annealing temperature (500 °C) and too long time (15 h) are harmful, which make the surface degenerate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issue 15, 23 April 2007, Pages 6772–6776
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issue 15, 23 April 2007, Pages 6772–6776
نویسندگان
Y.L. Wang, M.C. Li, L.C. Zhao,