کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1661559 | 1517699 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High temperature plasma immersion ion implantation of Ti6Al4V
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have performed high temperature nitrogen plasma immersion ion implantation (PIII) of Ti6Al4V by heating the samples for up to 800 °C, using tungsten filaments inside the sample holder. Ion implantation was done with the high voltage pulser at 5 kV, 40 μs duration and 400 Hz frequency, and a nitrogen glow discharge as the plasma source. Nanoindentation analysis of the treated surface indicated an improvement of 5 times in hardness for PIII treatment of 120 min. X-ray diffraction indicated the formation of Ti2N. Auger Electron Spectroscopy (AES) showed that the peak concentration is greater than 30% in the implanted nitrogen with the maximum penetration of 150 nm for the sample treated during 120 min.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 9–11, 26 February 2007, Pages 4953–4956
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 9–11, 26 February 2007, Pages 4953–4956
نویسندگان
M. Ueda, M.M. Silva, C.M. Lepienski, P.C. Soares Jr., J.A.N. Gonçalves, H. Reuther,