کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1662255 | 1517696 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Macroscale computer simulations to investigate the chemical vapor deposition of thin metal-oxide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The chemical vapor deposition (CVD) of thin TiO2 films was studied on the macroscale level using a computational fluid model. The deposition rate was established for various substrate temperatures, showing the transition from a surface reaction rate limited regime to a mass limited regime.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 22–23, 25 September 2007, Pages 8838–8841
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 22–23, 25 September 2007, Pages 8838–8841
نویسندگان
E. Neyts, A. Bogaerts, M. De Meyer, S. Van Gils,