کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1662291 | 1517696 | 2007 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
NIR diode laser spectroscopy of HF and HCl at multiple points in the atmospheric pressure CVD of tin oxide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
This paper reports the in situ application, for the first time, of simultaneous multispecies, multipoint near-infrared diode laser absorption spectroscopy (NIRDLAS) to the deposition of thin films by atmospheric pressure chemical vapour deposition (APCVD). Hydrogen fluoride as a precursor and hydrogen chloride as a reaction product were detected in tin oxide thin film deposition in a roll-to-roll pilot reactor. The process is commercially important, and we demonstrate results from the application of the technology to the production scale manufacturing process for photovoltaic coatings.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 22–23, 25 September 2007, Pages 9030–9034
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 22–23, 25 September 2007, Pages 9030–9034
نویسندگان
Philip A. Martin, Robert J. Holdsworth, David W. Sheel, Rutger Schlatmann,