کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1663008 | 1517697 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pattern formation of Si surfaces by low-energy sputter erosion
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The evolution of silicon surfaces has been investigated using atomic force microscopy after low-energy (â¤Â 50 keV) Xe+ ion irradiation at room temperature with low ion fluences (â¤Â 1 Ã 1016 ions/cm2). Different effects have been observed as a function of the incidence angle of the ion beam: mountain-like roughening occurs near normal direction (θ â¤Â 45°), whereas ripple formation takes place with the wave-vector parallel (60° â¤Â θ â¤Â 75°) or perpendicular (θ â¥Â 80°) to the ion beam direction for larger angles. Threshold values for the ripple formation have been measured as low as 5 keV for the ion energy and 3 Ã 1015 ions/cm2 for the ion fluence.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 19â20, 5 August 2007, Pages 8299-8302
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 201, Issues 19â20, 5 August 2007, Pages 8299-8302
نویسندگان
K. Zhang, F. Rotter, M. Uhrmacher, C. Ronning, H. Hofsäss, J. Krauser,