کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1663524 | 1517707 | 2006 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of nanopillar CNx layer during impulse plasma deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Thus far, no structure of this type was observed during the IPD processes. The mechanism of the layer growth is difficult to explain. It probably involves accumulation of heat, and thus it may be a result of layer recrystallization.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 14â15, 10 April 2006, Pages 4448-4455
Journal: Surface and Coatings Technology - Volume 200, Issues 14â15, 10 April 2006, Pages 4448-4455
نویسندگان
Monika Mirkowska, Emil WierzbiÅski, Krzysztof Zdunek,