کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1678286 | 1009936 | 2009 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reactive diffusion under Laplace tension
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Nanostructures such as nanospheres or nanowires may contain surfaces and interfaces of pronounced curvature. To investigate the impact of severe curvature on the kinetic of reactions, thin-film Al/Cu/Al and Cu/Al/Cu triple layers are deposited on tungsten tips of 25Â nm curvature radius. The thermal reaction of the layer structure is studied by atom probe tomography. Experiments demonstrate that the reaction rate depends significantly on the deposition sequence of metals. Interpretation of the observed reaction kinetics leads to the conclusion that under the influence of interfacial tension probably the two limiting cases of atomic transport, Darken and Nernst-Planck kinetics, are realized in dependence on the stacking sequence.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Ultramicroscopy - Volume 109, Issue 5, April 2009, Pages 660-666
Journal: Ultramicroscopy - Volume 109, Issue 5, April 2009, Pages 660-666
نویسندگان
C. Ene, C. Nowak, C. Oberdorfer, G. Schmitz,