کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1680231 | 1518670 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Elastic properties of sub-stoichiometric nitrogen ion implanted silicon
ترجمه فارسی عنوان
خواص الاستیک یونی نیتروژن زیر استئوشیومتری سیلیکون را تحمل می کند
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ایمپلنت یون لایه نیترید سیلیکون، طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس، خواص انعطاف پذیر، تماس با میکروسکوپ نیروی اتمی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
Elastic properties of sub-stoichiometric nitrogen implanted silicon were measured with nanometer-resolution using contact resonance atomic force microscopy (CR-AFM) as function of ion fluence and post-annealing conditions. The determined range of indentation moduli was between 100 and 180 GPa depending on the annealing duration and nitrogen content. The high indentation moduli can be explained by formation of Si–N bonds, as verified by X-ray photoelectron spectroscopy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 349, 15 April 2015, Pages 169–172
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 349, 15 April 2015, Pages 169–172
نویسندگان
M.F. Sarmanova, H. Karl, S. Mändl, D. Hirsch, S.G. Mayr, B. Rauschenbach,