کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1686294 1518762 2006 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dose-rate dependence of radiation-induced interface trap density in silicon bipolar transistors
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Dose-rate dependence of radiation-induced interface trap density in silicon bipolar transistors
چکیده انگلیسی

The key effects of ionizing radiation on silicon dioxide are described and computed. Inclusion of bimolecular electron–hole recombination is shown to produce a saturation of fixed charge at high total dose and to a reduction in interface trap density at high dose-rates. These results can explain the enhanced low dose rate sensitivity (ELDRS) phenomenon. These results also predict a new dose-rate dependence at very high dose rates.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 250, Issues 1–2, September 2006, Pages 269–273
نویسندگان
, , , , ,