کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1687180 | 1010648 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Alignment of grain orientation in polycrystalline-SiO2 films induced by high-energy heavy ions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have investigated effects induced by 100 MeV Xe and 90 MeV Ni ion irradiation on polycrystalline (poly-) SiO2 tridymite-films prepared by oxidation of Si(1 0 0) substrates at 1300 °C for 5 h in air. X-ray diffraction (XRD) results reveal alignment of the grain-orientation and increase of the lattice parameters as well as amorphisation due to the electronic energy deposition by ion irradiation. No clear images for grain-growth have been observed by atomic force microscopy (AFM).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 245, Issue 1, April 2006, Pages 231-234
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 245, Issue 1, April 2006, Pages 231-234
نویسندگان
N.S. Shinde, N. Matsunami, T. Shimura, M. Sataka, S. Okayasu, T. Kato, M. Tazawa,