کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1688473 | 1518960 | 2014 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Considerations for the physical vapor deposition of high molar mass organic compounds
ترجمه فارسی عنوان
ملاحظات برای رسوب فیزیکی بخار ترکیبات ارگانیک مولر بالا
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
رسوب بخار، نیمه رسانای آلی، زیر فتالوسیانین، مولار، بالا، جرم،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
The challenges related to the deposition of high molar mass organic compounds by physical vapor deposition (PVD) are of importance to those developing new organic electronic devices and materials. In this study we report on strategies to maximize film uniformity and mass yield within the context of rapid screening of newly prepared organic semiconductors using small amounts of these highly valuable materials. We propose guidelines for maximizing mass utilization by way of thermal source type and its position selection and tooling factor prediction. As an aside, we also highlight that fluorination of subphthalocyanine (subPc) related compounds increases their vapor pressure, despite a corresponding increase in molar mass.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 109, November 2014, Pages 26-33
Journal: Vacuum - Volume 109, November 2014, Pages 26-33
نویسندگان
Jeffrey S. Castrucci, Jeremy D. Dang, Brett A. Kamino, Andrew Campbell, David Pitts, Zheng-Hong Lu, Timothy P. Bender,