کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1691660 | 1011324 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Composition and optical properties of silicon nitride films grown on SiO2-glass and R-Al2O3 substrates by reactive RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have grown silicon nitride (Si3N4) films on SiO2-glass and R-Al2O3 substrates by using reactive RF magnetron sputtering deposition methods with N2 pure gas and N2Â +Â Ar mixture gas. The film composition, thickness and impurities have been examined by ion beam analysis. It is shown that the films have stoichiometric composition and are free from Ar contamination, when N2 gas was used for the film deposition. Effects of impurities on the film properties, e.g., optical properties will be discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 12, 8 August 2008, Pages 1482-1485
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 12, 8 August 2008, Pages 1482-1485
نویسندگان
N. Matsunami, S. Ninad, M. Tazawa, T. Shimura, M. Sataka, Y. Chimi,