Optical lithography-a historical perspective

La lithographie optique (aussi appelée photolithographie) a été le facteur clé pour réduire les tailles de motifs des circuits intégrés, ce qui a permis une croissance exponentielle de l'industrie du semiconducteur. Souvent par le passé on a prédit la fin de la lithographie optique, mais cette technologie est et devrait rester pour les quelques années qui viennent la voie privilégiée. Cet article décrit les percées qui ont permis à la photolithographie de satisfaire toutes les exigences d'une production avancée de volume. Basée sur quelques principes d'optique, cette technologie a fait évoluer de manière significative l'outil d'exposition et la résine photosensible, en réduisant la longueur d'onde d'exposition et plus récemment en tirant parti de la cohérence de la lumière et en corrigeant les effets de proximité, en particulier par une conception de masques avancée et des techniques d'illumination optimisées. Enfin cet article discutera de quelques tendances récentes en photolithographie. Pour citer cet article : K. Ronse, C. R. Physique 7 (2006).