کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1876657 | 1042028 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Development of micromachining technology in ion microbeam system at TIARA, JAEA
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
تشعشع
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Development of micromachining technology in ion microbeam system at TIARA, JAEA Development of micromachining technology in ion microbeam system at TIARA, JAEA](/preview/png/1876657.png)
چکیده انگلیسی
An ion-beam-lithography technique has been progressed in the microbeam systems at Japan Atomic Energy Agency (JAEA) Takasaki. In order to obtain a high-precision measure for microbeam size estimation with a high precision, we applied this technique combined with the electroplating process to make a Ni relief pattern as a resolution standard used in secondary electron imaging. As a result, the smallest beam size could be recorded. The scattering of ions in the materials influenced the spatial resolution and this is also discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Radiation and Isotopes - Volume 67, Issue 3, March 2009, Pages 488–491
Journal: Applied Radiation and Isotopes - Volume 67, Issue 3, March 2009, Pages 488–491
نویسندگان
T. Kamiya, H. Nishikawa, T. Satoh, J. Haga, M. Oikawa, Y. Ishii, T. Ohkubo, N. Uchiya, Y. Furuta,