کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1886532 | 1043529 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Low dose measurement with thick gate oxide MOSFETs
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
تشعشع
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The low dose limit and the accuracy of high sensitivity MOS ionizing radiation dosimeters fabricated at LAAS-CNRS are investigated.
► Low dose limit of thick-oxide Metal-Oxide-Semiconductor dosimeters is investigated.
► Influence of read-time instability, electronic noise, temperature variation and calibration is considered.
► It is concluded that such sensors can operate in the mGy range with acceptable accuracy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Radiation Physics and Chemistry - Volume 81, Issue 3, March 2012, Pages 339–344
Journal: Radiation Physics and Chemistry - Volume 81, Issue 3, March 2012, Pages 339–344
نویسندگان
G. Sarrabayrouse, S. Siskos,