Estudio de la temperatura de crecimiento sobre la cristalinidad en películas delgadas de BaTiO3*

ResumenPelículas delgadas Ferroeléctricas de BaTiO3 (BTO) se depositaron a partir de un blanco de BaTiO3 mediante la técnica de RF-Sputtering (erosión catódica por radio frecuencia) sobre substratos de nicromel y cuarzo. Se estudió el efecto de la temperatura de sustrato in-situ en la cristalinidad del material durante su depósito. Estas muestras fueron comparadas con películas depositadas a temperatura ambiente y tratadas térmicamente posterior al depósito fuera de la cámara de crecimiento. El estudio de la cristalinidad fue realizado mediante la técnica de difracción de rayos-X. Adicionalmente, se llevaron a cabo caracterizaciones ópticas mediante un espectrofotómetro UV-Vis. El crecimiento de películas delgadas con temperatura de sustrato permite la obtención de materiales cristalinos a temperaturas por debajo de las reportadas por otros autores.

Ferroelectric thin films of BaTiO3 (BTO) were grown on quartz, and nichrome substrates using a BaTiO3 target by RF-Sputtering technique. It was studied the effect of the substrate temperature in the crystallization of the material. These samples were compared with films deposited at room temperature and heat treated out of the growth Chamber. Their crystallinity were studied by X-ray diffraction. Additionally, the optical characterizations were carried out by UV-Vis spectrophotometer. The growth of thin films with substrate temperature allows the obtaining of crystalline materials at temperatures below those reported by other authors.