کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4971845 | 1450536 | 2016 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reliability evaluation of tungsten donut-via as an element of the highly robust metallization
ترجمه فارسی عنوان
ارزیابی قابلیت اطمینان از تنگستن دونات از طریق یک عنصر فلزکاری بسیار قوی
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی کامپیوتر
سخت افزارها و معماری
چکیده انگلیسی
The developed so called highly robust metallization is optimized for applications with extended operating conditions regarding higher currents and temperatures as well as mechanical stress [4]. Donut-Vias are elements of the highly robust metallization for the interconnection of highly robust metal lines. The paper shows the layout of a Donut-Via and explains the benefits and limits of the new layout by simulation and test results.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 64, September 2016, Pages 259-265
Journal: Microelectronics Reliability - Volume 64, September 2016, Pages 259-265
نویسندگان
Verena Hein, Marco Erstling, Raj Sekar Sethu, Kirsten Weide-Zaage, Tianlin Bai,