کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
4986020 | 1454792 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Tribological performance of a tungsten disulfide lubricant film prepared by atomic layer deposition using tungsten hexacarbonyl and hydrogen sulfide as precursors
ترجمه فارسی عنوان
عملکرد تریبولوژی یک فیلم روان کننده دیسفیلد تنگستن تهیه شده توسط رسوب لایه اتمی با استفاده از هگزاکربنایل تنگستن و سولفید هیدروژن به عنوان پیش ساز
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
دی فلوید تنگستن، رسوب لایه اتمی، اصطکاک کم تغییر جهت،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
شیمی کلوئیدی و سطحی
چکیده انگلیسی
The tribological properties of a tungsten disulfide solid lubricant film prepared by atomic layer deposition were investigated. The WS2 film was deposited using tungsten hexacarbonyl and hydrogen sulfide as precursors. The results showed that due to the incomplete reaction of tungsten hexacarbonyl, steady atomic concentrations of carbon and oxygen were detected throughout the WS2 film. The friction tests showed that in humid air the WS2 film exhibited good environmental robustness, and in dry nitrogen it exhibited a low friction coefficient, which decreased to 0.035 at a steady lubrication state. The formation of a transfer film on the counterface of a Si3N4 ball, and the reorientation with a few top (002) basal planes in the wear track were revealed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Tribology International - Volume 114, October 2017, Pages 478-484
Journal: Tribology International - Volume 114, October 2017, Pages 478-484
نویسندگان
Yongfeng Sun, Zhimin Chai, Xinchun Lu, Jing Lu,