کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5347311 | 1503547 | 2017 | 25 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Correlation between oxidant concentrations, morphological aspects and etching kinetics of silicon nanowires during silver-assist electroless etching
ترجمه فارسی عنوان
همبستگی بین غلظت اکسیدان، جنبه های مورفولوژیکی و سینتیک اچینگ نانوسیم های سیلیکونی در زمان اچینگ الکترولیز نقره
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Cross section SEM images of silicon nanowires prepared in etchant solution composed of 4% HF and 4.5% H2O2 for different etching time: A) 30Â min, B) 60Â min,C) 90Â mn, D) 180Â min, E)120Â min and F) 240Â min. J) Height of silicon nanowire versus time for three different H2O2 concentration.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 425, 15 December 2017, Pages 1-7
Journal: Applied Surface Science - Volume 425, 15 December 2017, Pages 1-7
نویسندگان
Besma Moumni, Abdelkader Ben Jaballah,