کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5351105 | 1503570 | 2017 | 26 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Transparent conductive Hf-doped In2O3 thin films by RF sputtering technique at low temperature annealing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Transparent conductive Hf-doped In2O3 thin films by RF sputtering technique at low temperature annealing Transparent conductive Hf-doped In2O3 thin films by RF sputtering technique at low temperature annealing](/preview/png/5351105.png)
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 399, 31 March 2017, Pages 716-720
Journal: Applied Surface Science - Volume 399, 31 March 2017, Pages 716-720
نویسندگان
G.H. Wang, C.Y. Shi, L. Zhao, H.W. Diao, W.J. Wang,