کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5351274 | 1503571 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth and atomic structure of tellurium thin films grown on Bi2Te3
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have grown tellurium (Te) thin films on Bi2Te3 and investigated the atomic structure. From low-energy electron diffraction (LEED) measurements, we found that the Te films are [101¯0]-oriented with six domains. A detailed analysis of the reflection high-energy electron diffraction (RHEED) pattern revealed that the films are strained with the in-plane lattice constant compressed by â¼1.5% compared to the bulk value due to the epitaxy between Te and Bi2Te3. These films will be interesting systems to investigate the predicted topological phases that occur in strained Te.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 398, 15 March 2017, Pages 125-129
Journal: Applied Surface Science - Volume 398, 15 March 2017, Pages 125-129
نویسندگان
Yuma Okuyama, Yuya Sugiyama, Shin-ichiro Ideta, Kiyohisa Tanaka, Toru Hirahara,