کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5352640 1503679 2013 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructure and nanomechanical properties of Fe+ implanted silicon
ترجمه فارسی عنوان
ریزساختار و خواص نانو تکنیک سیلیکون اکسید سیلیکون
کلمات کلیدی
سیلیکون، پیوند آهن، انلینگ، آمورفیزیک، خواص نانومکانیک،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
Silicon wafers were implanted with iron ions at different fluences (from 5 × 1015 up to 2 × 1017 cm−2), followed by annealing treatments at temperatures from 550 °C to 1000 °C, aiming at evaluating the nanomechanical response of the samples and its relation with the microstructural features and characteristics of the modified layer. After implantation, a homogeneous amorphous layer with a thickness between 200 nm and 270 nm is formed, without damaging the surface smoothness neither introducing surface defects. After annealing, recrystallization and formation of nanometric precipitates of iron silicides is observed, with the corresponding changes in the hardness and stiffness of the modified layer. These results indicate that ion implantation of silicon followed by annealing at proper temperatures, can be an alternative route to be deeper explored in what concerns the precise control of the microstructure and, thus, the improvement of nanomechanical properties of silicon.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 284, 1 November 2013, Pages 533-539
نویسندگان
, , , , ,