کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5352866 | 1503682 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
X-ray spectroscopic methods in the studies of nonstoichiometric TiO2âx thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Thin films of TiO2âx are deposited by means of dc-pulsed reactive sputtering. ⺠X-ray spectroscopic techniques are used to study electronic and structural properties. ⺠Contribution from Ti3+ oxidation states appears in nonstoichiometric TiO2âx. ⺠Band gap energies derived from the optical spectra and RXES analysis are consistent.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 281, 15 September 2013, Pages 100-104
Journal: Applied Surface Science - Volume 281, 15 September 2013, Pages 100-104
نویسندگان
K. Kollbek, M. Sikora, Cz. Kapusta, J. Szlachetko, K. Zakrzewska, K. Kowalski, M. Radecka,