کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5353051 | 1503683 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A Monte Carlo simulation model for surface evolution by plasma etching
ترجمه فارسی عنوان
یک مدل شبیه سازی مونت کارلو برای تکامل سطح توسط اکسایش پلاسما
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
A Monte Carlo simulation model, i.e. sputtering etch model, was established with Monte Carlo method to simulate plasma etching induced surface morphology evolution. The surface morphology images and fractal exponents were obtained, with α = 0.5, β = 0.27, z = 1.76. Germanium samples were etched in SF6 plasma and the post-etch surface was analyzed in order to compare with the model. The surface morphology images and fractal exponents by simulation describe the experimental results very well.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 280, 1 September 2013, Pages 655-659
Journal: Applied Surface Science - Volume 280, 1 September 2013, Pages 655-659
نویسندگان
Fangfang Chen, Kaigui Zhu, Aqing Chen, Weijie Huang, Lishuang Feng, Zhen Zhou, Guanglu Ge,