دانلود رایگان مقاله ISI : اثرات فشار بخار اکسیژن و دمای انیلنج بر تنش باقیمانده از نازک اکسید هافنیم بر روی سیلیکون با استفاده از روش پراش اشعه ایکس بر اساس سنینکروترون

Effects of oxygen partial pressure and annealing temperature on the residual stress of hafnium oxide thin-films on silicon using synchrotron-based grazing incidence X-ray diffraction

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 384, 30 October 2016, Pages 376-379

Debaleen Biswas, Anil Kumar Sinha, Supratic Chakraborty,