کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5354960 | 1503691 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Mitigation of ion and particulate emission from laser-produced plasmas used for extreme ultraviolet lithography
ترجمه فارسی عنوان
کاهش انتشار یون و ذرات از پلاسما تولید شده توسط لیزر برای لیتوگرافی شدید فرابنفش
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش، منابع لیزری پلاسما، لیزر اکسیمر، سیستم های کاهش خسارت،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
⺠We measured velocity, size, charge, momentum, spectral energy, space distribution of debris emitted by a laser-plasma source. ⺠Our debris mitigation systems allows reduction factors â¼800 for atoms and nm-size clusters and â¼1600 for particles >500 nm. ⺠Our debris mitigation system consists of buffer gas and a mechanical device, the latter stops debris slowed-down by the gas. ⺠We note the formation of sub-micrometric clusters due to a homogeneous nucleation-like mechanism.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 272, 1 May 2013, Pages 13-18
Journal: Applied Surface Science - Volume 272, 1 May 2013, Pages 13-18
نویسندگان
Paolo Di Lazzaro, Sarah Bollanti, Francesco Flora, Luca Mezi, Daniele Murra, Amalia Torre,