دانلود مقالات ISI درباره لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش + ترجمه فارسی

القاء آفت قلع برای تمیز کردن قطره های آلوده

Induction of tin pest for cleaning tin-drop contaminated optics

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Phase transitions; Structural changes; Multilayer coating; Optics cleaning; Extreme ultraviolet lithography; LPP; laser-produced plasma; EUV; extreme ultra-violet; MLM; multilayer mirror; CCD; charge-coupled device;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 16 صفحه سال انتشار : 2017 سفارش ترجمه

مکانیسم و ​​مدل هیدروژنی اتمی برای انواع مختلف آلودگی کربن در چند لایه فوق العاده فرابنفش

Mechanism and model of atomic hydrogen cleaning for different types of carbon contamination on extreme ultraviolet multilayers

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Atomic hydrogen cleaning; Different types of carbon contamination; Extreme ultraviolet lithography; Cleaning mechanism

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

کاهش انتشار یون و ذرات از پلاسما تولید شده توسط لیزر برای لیتوگرافی شدید فرابنفش

Mitigation of ion and particulate emission from laser-produced plasmas used for extreme ultraviolet lithography

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Extreme ultraviolet lithography; Laser-plasma sources; Excimer lasers; Debris mitigation systems;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2013 سفارش ترجمه

Vacuum ultraviolet spectral emission properties of Ga, In and Sn droplet-based laser produced plasmas

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Atomic Emission Spectroscopy; Laser Produced Plasma; Droplet Target; Vacuum Ultraviolet Emission; Extreme Ultraviolet Lithography

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

ASAP7: A 7-nm finFET predictive process design kit

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Predictive process design kit; 7-nm technology; Process scaling; Extreme ultraviolet lithography; Self-aligned multiple patterning; Design rules;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 11 صفحه سال انتشار : 2016 سفارش ترجمه

Fabrication of Fresnel zone plates with 25 nm zone width using extreme ultraviolet holography

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Fresnel zone plate; Extreme ultraviolet lithography; Electron beam lithography; Diffractive optics; Spatial frequency

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

High resolution negative tone molecular resist based on di-functional epoxide polymerization

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Molecular resists; Line edge roughness; Cationic polymerization; High resolution lithography; Epoxide; E-beam lithography; Extreme ultraviolet lithography

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Adhesion force change on multilayer EUVL mask due to laser induced plasma shock wave

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Adhesion force; Extreme ultraviolet lithography; EUVL; Mask; Laser shock wave cleaning; Laser induced plasma shock wave; Force–distance spectroscopy; Alumina thin film

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Properties of ultrathin films appropriate for optics capping layers exposed to high energy photon irradiation

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Optics contamination; Protective film; Capping layer; Multilayer; Extreme ultraviolet; Extreme ultraviolet lithography; Oxidation; Carbonization; Ruthenium; Rhodium; TiO2; ZrO2;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 27 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Employing a detailed compositional analysis to develop a low defect Mo/Si deposition tool and process for EUVL mask blanks

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Extreme ultraviolet lithography; Mask; Mo/Si; Multilayer deposition; Defects

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Etching characteristics of Ta and TaN using Cl2/Ar inductively coupled plasma

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Ta; TaN; Plasma etching; Extreme ultraviolet lithography; Inductively coupled plasma

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Surface phenomena related to mirror degradation in extreme ultraviolet (EUV) lithography

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; 82.65.+r; 68.43.−h; 79.20.La; Extreme ultraviolet lithography; EUV optics contamination; EUV optics lifetime; Ruthenium; Ru(0 0 0 1); Ru(101¯0); Water; Oxygen; Electron stimulated desorption; Photon stimulated desorption;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 18 صفحه سال انتشار : 2006 سفارش ترجمه

Advancing the ion beam thin film planarization process for the smoothing of substrate particles

Keywords: لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفش; Extreme ultraviolet lithography; Reticle; Mask; Multilayer; Film; Defect; Smoothing; Microelectronic manufacturing;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 13 صفحه سال انتشار : 2005 سفارش ترجمه