کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
7845592 | 1508480 | 2008 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of ultrathin films appropriate for optics capping layers exposed to high energy photon irradiation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Oxidation - اکسیداسیونTiO2 - تیتانیوم دی اکسیدZrO2 - دیاکسید زیرکونیومRuthenium - روتنیوم rhodium - رودیمProtective film - فیلم محافظExtreme ultraviolet lithography - لیتوگرافی افراطی ماوراء بنفشExtreme ultraviolet - ماوراء بنفش شدیدCapping layer - پوشش لایهMultilayer - چند لایهCarbonization - کربنیزاسیون یا کربن سازی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The contamination of optical surfaces by photon irradiation in the presence of background vacuum gases shortens optics lifetime and is one of the main concerns for reflection optics used in conjunction with intense light sources, such as high power lasers, 3rd and 4th generation synchrotron sources or plasma sources used in extreme ultraviolet lithography (EUVL) tools. This paper focuses on properties and surface chemistry of different materials, which as thin films could be used as capping layers to protect and extend the lifetime of multilayer mirror optics, especially those exposed to 13.5 nm (92 eV) radiation for EUVL applications. The most promising candidates include single element materials such as ruthenium and rhodium, and oxides such as TiO2 and ZrO2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Surface Science Reports - Volume 63, Issue 2, 15 February 2008, Pages 73-99
Journal: Surface Science Reports - Volume 63, Issue 2, 15 February 2008, Pages 73-99
نویسندگان
Saša Bajt, N.V. Edwards, Theodore E. Madey,