کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5355633 1503703 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Out-diffusion of hydrogen from hydrogen plasma-processed oxygen-implanted silicon
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Out-diffusion of hydrogen from hydrogen plasma-processed oxygen-implanted silicon
چکیده انگلیسی
► Hydrogen interaction with defects and oxygen is observed for the processed SOI-like structures. ► Vacancy clusters and SiO2−x clusters are a dominating type of defects in the processed oxygen-implanted silicon. ► Hydrogen-plasma treatment can be used for detection of defects and of depth profile of oxygen in the SOI-like systems.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 260, 1 November 2012, Pages 54-58
نویسندگان
, , , , , , ,