کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355633 | 1503703 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Out-diffusion of hydrogen from hydrogen plasma-processed oxygen-implanted silicon
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Hydrogen interaction with defects and oxygen is observed for the processed SOI-like structures. ⺠Vacancy clusters and SiO2âx clusters are a dominating type of defects in the processed oxygen-implanted silicon. ⺠Hydrogen-plasma treatment can be used for detection of defects and of depth profile of oxygen in the SOI-like systems.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 260, 1 November 2012, Pages 54-58
Journal: Applied Surface Science - Volume 260, 1 November 2012, Pages 54-58
نویسندگان
A. Misiuk, J. Bak-Misiuk, A. Barcz, P. Romanowski, I. Tyschenko, A. Ulyashin, M. Prujszczyk,