کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355670 | 1388195 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Resistless patterning of a chlorine monolayer on a Si(0Â 0Â 1) surface with an electron beam
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We achieved electron beam (e-beam) patterning without a photoresist on a Cl-terminated Si(0Â 0Â 1) surface. The Cl-Si bonds were easily broken by the irradiation with an e-beam of 1Â keV. We demonstrated the selective adsorption of desired molecules on the surface by e-beam irradiation in environments consisting of different gases, such as oxygen, ammonia, and 1-butanethiol.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 8794-8797
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 8794-8797
نویسندگان
C. Jeon, H.-N. Hwang, H.-J. Shin, C.-Y. Park, C.-C. Hwang,