کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355714 | 1388195 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon nanosheets by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition in CH4-Ar system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Catalyst-free CNSs were firstly achieved in Ar-CH4 by MPECVD at 450-500 °C. ⺠The CNSs possess many shape edges which consist of a few layers of graphene. ⺠The CNSs have demonstrated a faster electron transfer. ⺠The results provide the possibility for lower-temperature growth of graphene.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 9082-9085
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 9082-9085
نویسندگان
Zhipeng Wang, Mao Shoji, Hironori Ogata,