کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5355714 1388195 2011 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Carbon nanosheets by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition in CH4-Ar system
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Carbon nanosheets by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition in CH4-Ar system
چکیده انگلیسی
► Catalyst-free CNSs were firstly achieved in Ar-CH4 by MPECVD at 450-500 °C. ► The CNSs possess many shape edges which consist of a few layers of graphene. ► The CNSs have demonstrated a faster electron transfer. ► The results provide the possibility for lower-temperature growth of graphene.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 9082-9085
نویسندگان
, , ,