کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5355733 | 1388195 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optimum packing density and crystal structure of tin-doped indium oxide thin films for high-temperature annealing processes
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We studied the electrical properties and microstructure of annealed ITO thin films. ⺠The ITO thin films were deposited by sputtering and annealed after deposition. ⺠The ITO thin films with high packing density had low-resistivity after annealing. ⺠The low-resistive ITO thin film came from high Hall mobility. âºThe carrier electrons of the films with high packing density can conduct well.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 9207-9212
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 21, 15 August 2011, Pages 9207-9212
نویسندگان
Kazuhiro Kato, Hideo Omoto, Takao Tomioka, Atsushi Takamatsu,