کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356019 | 1388199 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Interfacial reaction and electrical characteristics of Cu(RuTaNx) on GaAs: Annealing effects
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Interfacial reaction and electrical characteristics of Cu(RuTaNx) on GaAs: Annealing effects Interfacial reaction and electrical characteristics of Cu(RuTaNx) on GaAs: Annealing effects](/preview/png/5356019.png)
چکیده انگلیسی
⺠Interfacial reaction of barrierless Cu(RuTaNx)/GaAs structure is clarified. ⺠The structure shows electrical rectifying properties upon annealing at 550 °C. ⺠The formation of quasi ohmic contact is further confirmed by XRD, TEM and EDS.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 16, 1 June 2011, Pages 7286-7290
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 16, 1 June 2011, Pages 7286-7290
نویسندگان
W.K. Leau, J.P. Chu, C.H. Lin,