کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356129 | 1388201 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Laser induced simultaneous etching of silicon and deposition of carbon materials
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Single step laser assisted processing of Si-surfaces. ⺠Simultaneous etching of Si and deposition of carbon material. ⺠Carbon coated etch pits can be created. ⺠High processing rates and big aspect ratios of etch pits achievable.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 23, 15 September 2012, Pages 9167-9170
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 23, 15 September 2012, Pages 9167-9170
نویسندگان
A. Rashid, K. Piglmayer,