کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5356301 1388202 2015 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The flip-over effect in pulsed laser deposition: Is it relevant at high background gas pressures?
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر لغزش در رسوب لیزر پالسی: آیا در فشار بالا گاز پس زمینه مناسب است؟
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
چکیده انگلیسی
We investigate the flip-over effect in vacuum and at three relevant background-gas pressures for pulsed laser deposition using a La0.4Ca0.6MnO3 target by measuring the thickness dependence of the deposited material as a function of angle. The film thicknesses and compositions are determined by Rutherford backscattering and argon is used to reduce the influence of additional chemical reactions in the plasma. The results show the prevalence of the flip-over effect for all pressures except for the highest, i.e. 1 × 10−1 mbar, where the film thickness is constant for all angles. The composition profiles show noticeable compositional variations of up to 30% with respect to the target material depending on the background gas pressure, the angular location, and the laser spot dimensions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 357, Part B, 1 December 2015, Pages 2055-2062
نویسندگان
, , , , ,