کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5356744 | 1388208 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Y thin films by ultrashort pulsed laser deposition for photocathode application
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Y thin films by ultrashort pulsed laser deposition for photocathode application Y thin films by ultrashort pulsed laser deposition for photocathode application](/preview/png/5356744.png)
چکیده انگلیسی
⺠We deposit Y thin films by pulsed laser ablation with 0.5 and 5 ps pulse durations. ⺠Y thin films deposition is interesting for photocathode application. ⺠Y thin films are well adherent to the substrate with a high abundance of nano-particles on the film surface. ⺠Nano-particles abundance decreases as a function of the laser fluence.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8719-8723
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 22, 1 September 2012, Pages 8719-8723
نویسندگان
A. Lorusso, M.L. De Giorgi, C. Fotakis, B. Maiolo, P. Miglietta, E.L. Papadopoulou, A. Perrone,