کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5357290 | 1388215 | 2010 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of Ag nanostructures on TiO2 thin films by RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Deposition of Ag nanostructures on TiO2 thin films by RF magnetron sputtering Deposition of Ag nanostructures on TiO2 thin films by RF magnetron sputtering](/preview/png/5357290.png)
چکیده انگلیسی
Ag nanostructures on TiO2 films were deposited by RF magnetron sputtering under variable deposition parameters, such as DC potential, RF-power and total pressure. The concentration, shape, and distribution of the deposited nanostructures and continuous Ag films on thin films of TiO2 can be tailored by careful variation of the deposition parameters. Controllable clusterlike, islandlike and film Ag structures on TiO2 film were obtained, respectively. DC potential was found as an appropriate parameter to tailor the change of Ag nanostructure and the overall Ag amount. The compositions, nanostructures and morphologies of nanocomposite films appreciably influence the optical response.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 23, 15 September 2010, Pages 7096-7101
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 23, 15 September 2010, Pages 7096-7101
نویسندگان
J. Zuo,