کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5358010 1503613 2015 25 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The effect of Cu doping concentration on resistive switching of HfO2 film
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
The effect of Cu doping concentration on resistive switching of HfO2 film
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 351, 1 October 2015, Pages 704-708
نویسندگان
, , ,