کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5358650 | 1388235 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of tungsten nitride thin films by plasma focus device at different axial and angular positions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Tungsten nitride thin films deposited on the stainless steel-304 substrates, using a low energy plasma focus device. ⺠Effects of distance from anode tip investigated at three different angular positions with respect to anode axis (0°, 10° and 30°). ⺠Structural properties of deposited films analyzed using XRD spectra. ⺠Micro-structure, surface morphology and hardness of the films analyzed using SEM and AFM images and micro-hardness measurements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 17, 15 June 2011, Pages 7653-7658
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 17, 15 June 2011, Pages 7653-7658
نویسندگان
M.T. Hosseinnejad, M. Ghoranneviss, G.R. Etaati, M. Shirazi, Z. Ghorannevis,