کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5358927 1388240 2011 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ growth of Ge-rich poly-SiGe:H thin films on glass by RF magnetron sputtering for photovoltaic applications
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه شیمی شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
In situ growth of Ge-rich poly-SiGe:H thin films on glass by RF magnetron sputtering for photovoltaic applications
چکیده انگلیسی
▶ The Si fraction influences various properties of the SiGe films. ▶ The decrease of Si fraction results in an increase of RMS roughness. ▶ The decrease of Si fraction results in an increase of grain size. ▶ The decrease of Si fraction narrows the band gap. ▶ The decreasing Si fraction leads to a dramatic decrease of the resistivity.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4354-4359
نویسندگان
, , , ,