کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5358927 | 1388240 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In situ growth of Ge-rich poly-SiGe:H thin films on glass by RF magnetron sputtering for photovoltaic applications
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
â¶ The Si fraction influences various properties of the SiGe films. â¶ The decrease of Si fraction results in an increase of RMS roughness. â¶ The decrease of Si fraction results in an increase of grain size. â¶ The decrease of Si fraction narrows the band gap. â¶ The decreasing Si fraction leads to a dramatic decrease of the resistivity.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4354-4359
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 9, 15 February 2011, Pages 4354-4359
نویسندگان
Chao-Yang Tsao, Ziheng Liu, Xiaojing Hao, Martin A. Green,