کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5359116 | 1388243 | 2009 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultrasmall Ge islands with low diameter-to-height aspect ratio on Si(1Â 0Â 0)-(2Â ÃÂ 1) surfaces
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Scanning tunneling microscopy (STM) and high resolution cross-sectional transmission electron microscopy (XTEM) studies have been used to investigate the formation of Ge nanocrystals grown on Si(1Â 0Â 0)-(2Â ÃÂ 1) surfaces by molecular beam epitaxy (MBE). We observe relatively high density of Ge islands where small 'pyramids', small 'domes' and facetted 'domes' of various sizes co-exist in the film. As revealed from XTEM images, a large fraction of islands, especially dome-shaped Ge islands have been found to have an aspect ratio of â¼1 (diameter):1 (height). Observation of truncated-sphere-shaped Ge islands with a narrow neck contact with the wetting layer is reported.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 2, 30 October 2009, Pages 356-360
Journal: Applied Surface Science - Volume 256, Issue 2, 30 October 2009, Pages 356-360
نویسندگان
K. Bhattacharjee, Anupam Roy, Jay Ghatak, P.V. Satyam, B.N. Dev,