کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5359296 | 1388245 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
In-situ study of the diffusion-reaction mechanism in Mo/Si multilayered films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: In-situ study of the diffusion-reaction mechanism in Mo/Si multilayered films In-situ study of the diffusion-reaction mechanism in Mo/Si multilayered films](/preview/png/5359296.png)
چکیده انگلیسی
ⶠDiffusion in multilayers can be monitored in situ by measuring the period over time. ⶠInterface growth in Mo/Si multilayers obeys parabolic growth law after 10-50 h. ⶠThe diffusion coefficients in the diffusion controlled regime obey Arrhenius law.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 7, 15 January 2011, Pages 2707-2711
Journal: Applied Surface Science - Volume 257, Issue 7, 15 January 2011, Pages 2707-2711
نویسندگان
S. Bruijn, R.W.E. van de Kruijs, A.E. Yakshin, F. Bijkerk,