کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5362102 | 1388281 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of negative substrate bias on the microstructure and mechanical properties of Ti-Si-N films deposited by a hybrid filtered cathodic arc and ion beam sputtering technique
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠A new technique of hybrid MFCA and IBS was used to deposit TiSiN films. ⺠TiSiN superhard films were synthesized without intentional heating system. ⺠Negative bias had a wide influence on structure and properties of TiSiN films. ⺠100 V negative bias was the optimal condition. ⺠Severe oxidation occurred in films deposited under 200 V and 300 V negative bias.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6897-6901
Journal: Applied Surface Science - Volume 258, Issue 18, 1 July 2012, Pages 6897-6901
نویسندگان
Yujuan Zhang, Yingze Yang, Yuhao Zhai, Pingyu Zhang,